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半导体激光器技术进展较快

发布日期:2018-03-30

  技术进展较快


  我国的半导体激光器技术早期与国外发展同步,但是长期受制于产业发展滞后的影响,一直徘徊在科学研究的范畴。直到新世纪,随着我国经济的快速发展和产业的进步,作为高新技术产业的半导体激光器行业也得到了巨大提升。随着市场经济的发展和成熟,我国建立了完备的专利制度,专利的状况现在已经能够在一定程度上反映技术的发展水平。


  截至目前,我国半导体激光行业累计相关专利27890件,数量众多。整体来看,我国半导体激光专利公开数量呈波动上升的趋势。2016年,半导体激光专利公开数量达2692件;2017年,我国半导体激光相关专利公开数量为2545件。总体来看,2011年以来,公开专利数量处于走高的形式。


  截至目前,从半导体激光相关专利申请者来看,专利申请量排名靠前的申请者为中国科学院半导体研究所(1642件)、株式会社半导体能源研究所(802件)、松下电器产业株式会社(486件)、中国科学院上海光学精密机械研究所(445件)、夏普株式会社(411件),其它申请人申请数量均在400件以下。可见,中国的研究所和外国企业处于我国半导体激光器研究方面的领先位置。


  从专利申请类型来看,电气元件领域专利申请数量最多,为15802件,是我国半导体激光行业热门应用领域;其次是测量、测试领域,半导体激光相关专利申请数量为4465件,其余类别半导体激光相关专利申请数量均少于4000件。